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国家标准《三维集成电路 第3部分:硅通孔模型及测试方法》 由TC599(全国集成电路标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 中国电子技术标准化研究院华进半导体封装先导技术研发中心有限公司工业和信息化部电子第五研究所厦门优迅芯片股份有限公司深圳市埃芯半导体科技有限公司苏州科阳半导体有限公司物元半导体技术(青岛)有限公司珠海硅芯科技有限公司

主要起草人 李锟王琪孙鹏陈天放杨晓锋陈哲张宸睿吕军陈为玉赵毅范剑峰

目录

标准状态

当前标准

GB/T 43536.3-2026 即将实施

三维集成电路 第3部分:硅通孔模型及测试方法

基础信息

标准号
GB/T 43536.3-2026
发布日期
2026-07-30
实施日期
2027-02-01
标准计划
20231790-T-339
标准类别
方法
中国标准分类号
L56
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国集成电路标准化技术委员会
执行单位
全国集成电路标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC 63011-3:2018。

采标中文名称:集成电路 三维集成电路 第3部分:硅通孔的模型及测试方法。

起草单位

起草人

李锟
王琪
杨晓锋
陈哲
陈为玉
赵毅
孙鹏
陈天放
张宸睿
吕军
范剑峰

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