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国家标准《集成电路 电磁发射测量 第3部分:辐射发射测量 表面扫描法》 由TC599(全国集成电路标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)。

主要起草单位 中国电子技术标准化研究院 、北京智芯微电子科技有限公司 、海研芯(青岛)微电子有限公司 、扬芯科技(深圳)有限公司 、厦门海诺达科学仪器有限公司 、中国合格评定国家认可中心 、天津先进技术研究院 、工业和信息化部电子第五研究所 、浙江大学 、南京容向测试设备有限公司 、北京航空航天大学 、北京国家新能源汽车技术创新中心有限公司 、中山大学 、深圳市中兴微电子技术有限公司 、河南省电子信息产品质量检验技术研究院 、江苏省质量和标准化研究院 、中国信息通信研究院 、南京师范大学 、中家院(北京)检测认证有限公司 、深圳硅山技术有限公司 。

主要起草人 崔强 、龙跃 、付君 、阎照文 、褚瑞 、方文啸 、吴建飞 、杨红波 、王新才 、朱赛 、张学磊 、陈梅双 、刘佳 、梁吉明 、邵伟恒 、魏兴昌 、沈学其 、雷黎丽 、龙发明 、谢利涛 、杨博 、王紫任 、颜伟 、王芳 、韦寿德 。

目录

标准状态

当前标准

GB/T 44937.3-2025 现行

集成电路 电磁发射测量 第3部分:辐射发射测量 表面扫描法

基础信息

标准号
GB/T 44937.3-2025
发布日期
2025-12-31
实施日期
2026-07-01
标准计划
20214069-T-339
标准类别
方法
中国标准分类号
L56
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国集成电路标准化技术委员会
执行单位
全国集成电路标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC TS 61967-3:2014。

采标中文名称:集成电路 电磁发射测量 第3部分:辐射发射测量 表面扫描法。

起草单位

起草人

崔强
龙跃
褚瑞
方文啸
王新才
朱赛
刘佳
梁吉明
沈学其
雷黎丽
杨博
王紫任
韦寿德
付君
阎照文
吴建飞
杨红波
张学磊
陈梅双
邵伟恒
魏兴昌
龙发明
谢利涛
颜伟
王芳

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