国家标准计划《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。 拟实施日期：发布后6个月正式实施。

主要起草单位 上海大学 、张江实验室 、苏州国家实验室 、上海集成电路材料研究院有限公司 、大连理工大学 、上海滴水微光科技有限公司 、华睿芯材（无锡）科技有限公司 。

主要起草人 张建华 、辛涵申 、闫腾飞 、李浩源 、丁星 、朱慧娥 、徐文涛 、鲁湛 、李春华 、刘兵 、陈鹏忠 、彭孝军 、樊江莉 、李文启 、苏阳 、胡杨 。