国家标准计划《ArF光刻胶释气测量方法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。 拟实施日期：发布后6个月正式实施。

主要起草单位 苏州国家实验室 、中国电子技术标准化研究院 、上海集成电路材料研究院有限公司 、上海华力集成电路制造有限公司 、上海市计量测试技术研究院有限公司 、上海大学 、国科天骥(山东)新材料有限责任公司 、大连理工大学 、上海滴水微光科技有限公司 。

主要起草人 邓天宁 、陈思 、李昱桦 、徐文涛 、曹可慰 、刘兵 、史泽远 、郭晓波 、常燕 、王勇 、闫腾飞 、吴金倩 、许箭 、李文启 。