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国家标准计划《量子技术 超高反射率光学薄膜性能表征及测量方法》由 TC578(全国量子技术标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。 拟实施日期:发布后6个月正式实施。

主要起草单位 中国科学技术大学合肥国家实验室北京大学电子科技大学成都速派光学技术有限公司中国计量科学研究院山西大学中国计量大学北京航天时代激光导航技术有限责任公司济南量子技术研究院中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院大连化学物理研究所中国标准化研究院埃特曼半导体技术有限公司清华大学中国人民解放军国防科技大学同济大学北京理工大学深圳长朗智能科技有限公司河南省科学院

主要起草人 霍永恒张熙博李斌成廖荣黄智强甘海勇胡水明孙青马维光谭爱红章光建钟东勳徐凭戴汉宁陈宇翱王超凡王胭脂郑耀辉邓淞文张萌周均铭王旭光郭强强颜立新彭小强张志强张锦龙张安宁李刚劳长石孙超伟徐红星

目录

项目进度

当前标准计划

20255414-T-469 正在征求意见

量子技术 超高反射率光学薄膜性能表征及测量方法

征求意见稿

基础信息

计划号
20255414-T-469
制修订
制定
项目周期
18个月
下达日期
2025-10-05
标准类别
方法
中国标准分类号
L51
国际标准分类号
17.180.01
17 计量学和测量、物理现象
17.180 光学和光学测量
17.180.01 光学和光学测量综合
归口单位
全国量子技术标准化技术委员会
执行单位
全国量子技术标准化技术委员会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

霍永恒
张熙博
黄智强
甘海勇
马维光
谭爱红
徐凭
戴汉宁
王胭脂
郑耀辉
周均铭
王旭光
彭小强
张志强
李刚
劳长石
李斌成
廖荣
胡水明
孙青
章光建
钟东勳
陈宇翱
王超凡
邓淞文
张萌
郭强强
颜立新
张锦龙
张安宁
孙超伟
徐红星

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