负责专业范围为集成电路用光刻掩模板制造。

擅长专业为1.从事光掩模制造与光刻工艺有关方面的工作有20年的经历； 2.光掩模版制造与光刻工艺方面有发明和专利多项； 3.近三年主持实施公司18项科研课题研发，取得了步进曝光方式掩模版划片道图形补偿技术、柔性线路板用掩模版图形透光率控制技术、半导体用掩模板薄膜重装工艺技术、固态激光直写掩版技术等一批自主创新核心技术。 自认定成为深圳市高层次人才以来，成功主持了公司高精度大尺寸TFT-LCD掩膜版研发的项目和科技成果产业化项目，并建立了应用于IC行业的掩摸版和厚胶版的研发平台，带领团队推出了厚胶高精度铬版，提出并解决了厚胶高精度铬版产品的行业解决方案，所研发产品应用于乐视8K触摸屏，已在国内厚胶版市场小范围使用，并取得良好的反响。。