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负责专业范围为光电功能材料与器件研发。

擅长专业为[1] 半导体外延材料生长与光敏芯片制备技术研究:IIIV族半导体材料设计和外延生长技术,光敏芯片结构设计(Rsoft、Silvarc、Comsol等设计方法),InGaAs/InP APD芯片制备工艺研究方面积累了8年的研发经验,熟悉MOCVD、扩散炉、光刻、真空镀膜等技术;[2] 材料理性设计、模拟、表征及性能研究:材料体系(InGaAs/InP、BYF、AlON、YAG等)设计、微缺陷(杂质、第二相及组分失配等)与材料光学、热学、力学性能关系的理论及实验研究,包括MS、VASP等第一性原理计算及原理性设计方法二等;[3] 焦平面探测器研究:新型红焦平面探测器总体设计技术、、光电转化机理、载流子传输性能、光场调控机理及器件制备等方面研究积累了丰富经验。。