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陈开盛

负责专业范围为微电子 光刻掩模版。

擅长专业为光刻图形数据处理技术，光掩模制造与光刻工艺，纳米级光刻位移测量技术，纳米级硅表面平整度和膜厚测量技术，极紫外光刻成像的光波场物理模型分析。。

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