《微机电系统（MEMS）技术 单晶金刚石近表层NV色心阵列制备工艺规范》由TC336（全国微机电技术标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准委。

随着金刚石 NV 色心在量子精密测量、磁场探测、温度探测、惯性传感和微纳器件等领域的应用不断拓展，近表层 NV 色心阵列因具有空间可集成、结构可设计、易于器件化等特点，已成为金刚石量子功能器件研究与应用的重要基础。

近年来，国内外围绕（100）单晶金刚石衬底上的 NV 色心制备，主要采用掩模限定氮离子注入、高温退火及光学表征等技术路线开展研究。

该类工艺虽然已具有一定研究基础，但在衬底条件、图形定义方式、注入参数控制、退火条件、表面清洗以及均匀性评价方法等方面，尚缺乏统一的技术指导文件，不同单位在工艺实施和测试评价过程中采用的方法、条件和判定依据差异较大，导致制备结果一致性不足、测试数据可比性不强，不利于相关工艺的规范实施、质量控制和推广应用。

经检索和调研，国内目前与本文件直接相关的现行标准，主要包括基础术语类和测试方法类标准，如 GB/T 26111—2023《微机电系统（MEMS）技术 术语》、GB/T 40219—2021《拉曼光谱仪通用规范》、GB/T 33252—2016《纳米技术 激光共聚焦显微拉曼光谱仪性能测试》 等。

这些标准分别在 MEMS 术语统一、拉曼光谱仪通用要求及激光共聚焦显微拉曼光谱仪性能测试方面提供了基础支撑，但尚未涉及 （100）单晶金刚石近表层 NV 色心阵列制备与均匀性评估的专用工艺流程、关键工艺要求、原材料要求、检验项目及均匀性评价方法等内容。

现阶段，国内尚未检索到与本文件对象、适用范围和技术内容完全对应的国家标准、行业标准或国际标准，因此本文件的制定具有一定的补充和完善标准体系的作用。

从国际情况看，现有 ISO、IEC 等国际标准中可检索到的内容，主要集中于 MEMS 相关基础术语、显微分析、拉曼测试、材料表征及通用测试方法等方面，尚未发现与 diamond nitrogen-vacancy center arrays 或 near-surface NV center fabrication and uniformity evaluation in (100)-oriented single-crystal diamond 直接对应的国际标准项目或已发布国际标准。