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《硅片体金属镍、铜含量的测定 外扩散法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准委

目录

基础信息

标准编号
20263870-T-469
计划下达日期
2026-07-30
项目周期
与中文国家标准项目周期一致
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

翻译承担单位

国内外简要情况说明

当前全球半导体产业快速发展的背景下,硅片作为集成电路制造的核心基础材料,其质量直接决定了芯片的性能与可靠性。

2025年,全球半导体硅片市场规模预计突破160亿美元,出货量达129.73亿平方英寸。

市场呈现高度集中格局,前五大企业占据约90%份额,其中300mm(12英寸)大尺寸硅片已成为主流,出货面积占比超70%。

产品结构上,300mm抛光片市场份额最高(约67%),其次为300mm外延片,两者共同支撑着先进逻辑芯片、存储芯片(如HBM)及高端功率器件的制造需求。