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表面化学分析 深度剖析 X射线光电子能谱法确定硅与氧化硅界面
Surface chemical analysis—Depth profiling—Determination of XPS at the interface between silicon and silicon oxide
外文版计划
EN
《表面化学分析 深度剖析 X射线光电子能谱法确定硅与氧化硅界面》由
TC608
(全国表面化学分析标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为
中国科学院
。
目录
基础信息
标准编号
20262154-T-491
计划下达日期
2026-04-28
项目周期
与中文国家标准项目周期一致
归口单位
全国表面化学分析标准化技术委员会
执行单位
全国表面化学分析标准化技术委员会
主管部门
中国科学院
翻译承担单位
季华实验室
清华大学
中国计量科学研究院
北京师范大学
广东工业大学
中国科学院化学研究所
河南大学
北京化工大学
中山大学
国内外简要情况说明
目前国内外还未有针对层结构样品界面测定的规范。