《表面化学分析 光谱椭偏术 岛状薄膜厚度及覆盖率测量方法》由TC608（全国表面化学分析标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为中国科学院。

国内外需求情况：椭偏测量是一种基于远场偏振光反射分析的相位差敏感测量技术。

从早期的单波长、多波长法到如今的光谱法，椭偏测量技术已成为集成电路行业非侵入式测量“事实上的标准”手段。

椭偏术通过直接测量倾斜入射条件下样品表面反射光的偏振状态变化，实现对表面物化特性的间接表征，如膜层厚度、介电常数、光学带隙、光学各向异性等。

近年来，多项椭偏测量术国际标准连续制定，如《ISO 23131:2021 椭偏术 原理》、《DIN 50989-6:2024 椭偏术 第6部分 等效介质模型》等。

然而，现有标准均无法对物理/化学气相沉积、湿法合成等工艺获得的纳米岛状薄膜进行表征。

考虑到当前岛状（颗粒状）薄膜在催化、燃料电池、排放控制领域愈加重要的应用，本标准旨在填补光谱椭偏术在纳米岛状薄膜测量方面的标准技术空白。