《砷化镓单晶位错密度的测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

GB/T 8760-2020《砷化镓单晶位错密度的测试方法》，规定了显微计数法为主的测试流程，主要适用于研发阶段位错密度验证和小批量检测，但未涵盖自动化检测技术及大尺寸晶圆（≥4 英寸）布点方案，低位错密度（≤103 cm？2）检测精度未明确。

SEMI M36-0699规定 2-3 英寸晶片的 9 点布点人工计数法，未涉及自动化检测及大尺寸衬底，适用于低位错密度初筛；ASTM F1404-92通过熔融 KOH 蚀刻技术评估晶体完整性，兼容镍坩埚等设备，但未定义网格化布点及双指标评价体系。