《氧化镓单晶抛光片》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

氧化镓单晶抛光片是近些年发展迅速的热点材料，其禁带宽度约为4.9eV，理论击穿场强8MV/cm，电子迁移率300 cm2/Vs等优异的性能的指标使其具备制作大功率、高耐压器件的能力；其巴利加优值高达3444，是碳化硅的10倍，氮化镓的4倍，可大幅降低其制作的元件的导通电阻；其吸收截止边（260nm~280nm）天然匹配日盲波段显示了其在日盲紫外光电领域的潜力。

氧化镓单晶抛光片等人工晶体是我国的优势项目，而氧化镓单晶的应用前景广阔。

本标准的制定将大力助推该产业的升级，对于推动相关器件及产业发展，提升我国相关技术自主创新能力的影响意义深远。