国家标准计划《硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 有研半导体材料股份有限公司 、中国有色金属工业标准计量质量研究所 。

主要起草人 孙燕 、李莉 、卢立延 、翟富义 、向磊 。