国家标准计划《电子气体 氧化亚氮》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC1(全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 昊华气体有限公司西南分公司 、宿州伊维特新材料有限公司 、广东华特气体股份有限公司 、西南化工研究设计院有限公司 、浙江西亚特电子材料有限公司 、中昊光明化工研究设计院有限公司 、西南化工研究设计院有限公司 、上海华爱色谱分析技术有限公司 、大连大特气体有限公司 、联雄投资(上海)有限公司 、空气化工产品(中国)投资有限公司等 。
| 71 化工技术 |
| 71.100 化工产品 |
| 71.100.20 工业气体 |
| 编号 | 语种 | 翻译承担单位 | 国内外需求情况 |
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| 1 | EN | 宿州伊维特新材料有限公司 | 电子级氧化亚氮主要用于半导体光电器件研制生产的介质膜工艺,是直接影响光电器件质量的不可替代的关键电子气体。高纯氧化亚氮在化学气相沉积(CVD)工艺中,可用于制备掺杂SiO2膜。近年来,随着大规模集成电路技术的进步,市场对电子气体的纯度和质量提出了越来越高的要求。在此背景下,为提升电子特气科技水平发展,现申请立项制定《电子气体 氧化亚氮》国家标准英文版。 |
电子级氧化亚氮主要用于集成电路技术领域,是一种性能极佳的高纯气体材料。
氧化亚氮作为集成电路用量大、纯度要求高的基础材料,是国家重点鼓励发展的产品和产业,符合《“十四五”推动高质量发展的国家标准体系建设规划》中建设制造业高端化领域的材料标准、符合《重点新材料首批次应用示范指导目录(2019 年版)》中电子化工新材料的“特种气体”。
随着集成电路技术进步,晶圆制造达到12英寸,对高纯氧化亚氮的质量提出更高要求, 目前,现行的电子用氧化亚氮标准(GB/T 14600-2009)已经执行近14年,随着技术进步和市场变化,适用范围、技术要求及试验方法等内容都需要修订。
2009版标准已无法现代集成电路产业的要求,因此建议重新修订该标准。
通过对标准的修订,旨在对生产和检测提供指导性作用,对下游半导体产业的发展提供质量保障。
有利于提高我国高端电子材料自给能力,推动电子相关产业进步,扩大我国高纯电子材料对外影响力,有效服务于国家战略需求。
本文件规定了电子级氧化亚氮的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输及贮存的要求。 本文件适用于以硫工业氧化亚氮为原料提纯制得的电子用氧化亚氮。 修订的内容如下: ——更改了名称(见封面,2009年版的封面) ——更改了范围(见第1章,2009年版的第1章) ——更改了规范性引用文件(见第2章,2009年版的第2章) ——增加了“术语和定义”一章(见第3章) ——更改了技术要求(见第4章,2009年版的第3章) ——更改了采样的要求(见第5章,2009年版的4.1.2) ——更改了纯度计算方法(见6.1,2009年版的4.2) ——更改了氧+氩、氮、一氧化碳、二氧化碳含量的测定方法(见6.2,2009年版的4.5、4.7) ——增加了氢含量的测定方法(见6.2) ——更改了总烃含量的测定方法(见6.3,2009年版的4.6) ——更改了氨、一氧化氮、二氧化氮含量的测定方法(见6.4,2009年版的4.4、4.9、4.10) ——更改了水分含量的测定方法(见6.5,2009年版的4.11) ——更改了检验规则(见第7章,2009年版的4.1.1) ——更改了标志、包装、运输及贮存(见第7章,2009年版的第5章) ——增加了安全信息的内容(见附录A) ——增加了“参考文献 ”(见“参考文献 ”)。