国家标准项目《电子气体 六氟化硫》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC1（全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会）执行 ，主管部门为国家标准委。
主要起草单位 昊华气体有限公司 、福建德尔科技股份有限公司 、江苏雅克科技股份有限公司 、广东华特气体股份有限公司 、浙江省化工研究院有限公司 、中昊光明化工研究设计院有限公司 、西南化工研究设计院有限公司 、上海华爱色谱分析技术有限公司 、大连大特气体有限公司 、联雄投资(上海)有限公司 、空气化工产品（中国）投资有限公司等 。
| 71 化工技术 |
| 71.100 化工产品 |
| 71.100.20 工业气体 |
| 编号 | 语种 | 翻译承担单位 | 国内外需求情况 |
|---|---|---|---|
| 1 | EN | 昊华气体有限公司 | 电子级六氟化硫是一种理想的电子蚀刻剂，广泛应用于微电子技术领域，用作电脑芯片、液晶屏等大型集成电路制造中的等离子刻蚀及清洗剂。在光纤制备中用作生产掺氟玻璃的氟源，在制造低损耗优质单模光纤中用作隔离层的掺杂剂。近年来，随着大规模集成电路技术的进步，市场对电子气体的纯度和质量提出了越来越高的要求。在此背景下，为提升电子特气科技水平发展，现申请立项制定《电子气体 六氟化硫》国家标准英文版。 |
本文件规定了电子级六氟化硫的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输及贮存的要求。 本文件适用于以硫与氟直接反应并经精制纯化或以工业六氟化硫为原料提纯制得的电子用六氟化硫。 修订的内容如下： ——更改了名称（见封面，2014年版的封面）； ——更改了范围（见第1章，2014年版的第1章）； ——更改了规范性引用文件（见第2章，2014年版的第2章）； ——增加了“术语和定义”一章（见第3章）； ——更改了技术要求（见第4章，2014年版的第3章）； ——增加了“采样”一章（见第5章）； ——更改了纯度计算方法（见6.1，2014年版的4.2）； ——更改了氧+氩、氮、四氟化碳、一氧化碳、二氧化碳、甲烷含量的测定方法（见6.2，2014年版的4.3）； ——增加了六氟乙烷和八氟丙烷含量的测定方法（见6.2）； ——更改了可水解氟化物的测定方法（见6.5， 2014年版的4.6）； ——更改了检验规则（见第7章， 2014年版的4.1）； ——更改了标志、包装、运输及贮存（见第8章,2014年版的第5章）； ——删除了“六氟化硫中氧+氩、氮、四氟化碳、一氧化碳、二氧化碳、甲烷含量的测定”规范性附录（2014年版的附录 A）； ——增加了安全信息的内容（见附录A）； ——增加了“参考文献 ”（见“参考文献 ”）
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