国家标准《金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 安徽光智科技有限公司 、云南驰宏锌锗股份有限公司 、国标（北京）检验认证有限公司 、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司 、东方电气（乐山）峨半高纯材料有限公司 、有研国晶辉新材料有限公司 、广东先导稀材股份有限公司 、广东飞成新材料有限公司 。

主要起草人 朱赞芳 、谭秀珍 、廖吉伟 、刘红 、吴王昌 、黎亚文 、李瑶 、刘英波 、李正美 、崔丁方 、李江霖 、段春芳 。