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国家标准计划《微机电系统(MEMS)技术 MEMS膜残余应力的晶圆曲率和悬臂梁挠度试验方法》由 TC336(全国微机电技术标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 合肥美的电冰箱有限公司中机生产力促进中心有限公司等

目录

基础信息

计划号
20221867-T-469
制修订
制定
项目周期
16个月
下达日期
2022-12-30
申报日期
2022-03-10
公示开始日期
2022-08-15
公示截止日期
2022-08-29
标准类别
方法
国际标准分类号
31.080.99
31 电子学
31.080 半导体分立器件
31.080.99 其他半导体分立器件
归口单位
全国微机电技术标准化技术委员会
执行单位
全国微机电技术标准化技术委员会
主管部门
国家标准委

起草单位

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC 62047-16:2015。

采标中文名称:半导体器件 微机电器件 第16部分:MEMS膜残余应力的晶圆曲率和悬臂梁挠度试验方法。

目的意义

当MEMS结构中沉积的薄膜存在残余应力时,会引起薄膜及其沉积基底在内的双层结构一起发生弯曲,其挠度与薄膜的残余应力直接相关。

残余应力为拉伸力时,基底呈凹状弯曲;残余应力为压缩力时,基底呈凸状弯曲。

本文件提供了两种MEMS薄膜力学特性的测试方法,分别为晶圆曲率法和悬臂梁挠度法。

该方法可以提供MEMS结构力学参数,用以监控MEMS器件制造工艺和产品质量,为MEMS器件监管提供有效的测试手段。

本文件的应用可为MEMS器件的制造工艺提供共性技术支撑,推动新型MEMS技术发展,推动新型MEMS器件的产业化。

范围和主要技术内容

本文件规定了厚度范围为0.01μm至10μm的薄膜的残余应力的测试方法,包括晶圆曲率法和悬臂梁挠度法两种测试方法。所述薄膜应沉积在杨氏模量和泊松比等力学性能已知的基底上。本文件规定的方法用于确定沉积在所述基底上的薄膜内的残余应力。 本文件主要技术内容包括范围、引用标准、术语和定义、测试方法、测试装置、测试规程和测试报告等部分。