国家标准计划《精细陶瓷（先进陶瓷、先进技术陶瓷） 室内照明环境中半导体光催化材料自清洁性能试验方法 水接触角测量法》由 TC194（全国工业陶瓷标准化技术委员会）归口 ，主管部门为中国建筑材料联合会。

主要起草单位 上海应用技术大学 。

本标准修改采用ISO国际标准：ISO 19810:2023。

采标中文名称:精细陶瓷（先进陶瓷、先进技术陶瓷） 室内照明环境中半导体光催化材料自清洁性能的试验方法 水接触角测量法。

半导体光催化材料在材料领域的应用与日俱增，这类材料包括二氧化钛、硫化物半导体和金属氧化物半导体等。

此类材料由于在光催化过程中产生的空穴具有很强的氧化性，许多结构稳定的有机污染物都能被光催化降解；此外，半导体光催化材料还能还原水中的重金属离子，并在杀菌、除臭以及表面自洁等方面也得到了广泛研究，因此半导体光催化技术被认为是最具有应用前景的环境污染控制技术。

随着现代材料科学技术的发展和工业产品结构的不断进步,半导体光催化材料的应用越来越广泛，其对于有机物的光催化降解的工作效率以及表面自清洁性能也越来越得到重视，因而通过某一实验方法测试半导体光催化材料在光照条件下的有机物的降解以及表面自清洁是近年来国内外重点研究的课题。

采用水接触角测量法作为评价半导体光催化材料表面在室内照明环境下自清洁性能的主要方法，它的主要优点是实现方式简单，仪器设备操作便捷，在测试的过程中不会对半导体光催化材料造成基底破坏，就可以根据接触角的变化来反应其自清洁的性能。

综上，本标准的主要目的是通过水接触角测量，来评价半导体光催化材料在室内照明环境下的自清洁性能。

这一方法不同于其他评价测试标准，具有操作简单、便捷等优点。

这一标准的制定可有效丰富我国现行的半导体光催化剂性能评价价体系。

本标准规定了在室内照明环境中测定含有室内光活性光催化剂或表面具有室内光活性光催化膜的片状材料自清洁性能的试验研究方法。 针对应用在基于其电子能带结构表现出光催化作用的物质，这适用于二氧化钛、硫化物半导体和金属氧化物半导体等，非半导体光催化剂包括金属配合物。本标准不适用于水滴不能附着在其上的可渗透材料，以及会模糊水滴的粗糙材料；不适用于因附着的有机物分解而导致的水接触角变化，但是无法评估的材料，因为在此情况下即使表面清洁，水接触角也非常大；还有通过将有机物附着到表面无法充分增加水接触角，此种情况下也无法适用。 标准规定了测试样品的试样尺寸及尺寸精度，试样制备工艺，试样数量，预处理步骤，实验仪器的技术参数，实验溶液的浓度，实验具体测试程序等。