国家标准项目《光学和光子学 微透镜阵列 第3部分:光学特性测试方法》由 TC103(全国光学和光子学标准化技术委员会)归口,TC103SC6(全国光学和光子学标准化技术委员会电子光学系统分会)执行 ,主管部门为中国机械工业联合会。
主要起草单位 中科院重庆绿色智能技术研究院 、中国科学院光电技术研究所 、中科院大连化学物理研究所 、中国兵器工业标准化研究所 、电子科技大学 。
| 31 电子学 |
| 31.260 光电子学、激光设备 |
本标准修改采用ISO国际标准:ISO 14880-3:2006。
采标中文名称:光学和光子学 微透镜阵列 第3部分:光学特性测试方法。
标准范围: 本标准规定了微透镜阵列的有效前/后焦距、色差、位置均匀性等光学特性的测量原理、测试设备、测试程序及耦合效率、成像质量评定。本标准适用于微透镜阵列光学特性的测量。 主要技术内容: 微透镜阵列光学特性主要包括有效前后焦距、色差、位置均匀性及表示耦合效率的斯特列尔比、表示成像质量的调制传递函数等。 1)有效前后焦距,采用干涉法和共焦显微成像法,通过测量微透镜阵列中每个子透镜的有效前后焦距,即可计算出有效前后焦距的均匀性。 2)色差,基于干涉法和共焦显微成像法测试不同波长下的有效前后焦距即可计算色差。 3)位置均匀性,采用哈特曼传感器法可以测量微透镜阵列,用于标定微透镜阵列用于波前传感场景时其自身固有的偏差。 4)表示耦合效率的斯特列尔比及用于表示成像质量的调制传递函数,可以通过利用《微透镜阵列 第2部分:波前像差的测试方法》,测量出微透镜阵列的波前像差,然后计算获得斯特列尔比及调制传递函数。而表示微透镜阵列成像质量的分辨率指标,可以采用分辨率版结合显微成像法进行测量。