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国家标准计划《集成电路 电磁发射测量 第8部分:辐射发射测量 带状线法》由 TC599(全国集成电路标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 中国电子技术标准化研究院

目录

基础信息

计划号
20214064-T-339
制修订
制定
项目周期
18个月
下达日期
2021-10-13
申报日期
2021-03-28
公示开始日期
2021-08-17
公示截止日期
2021-08-31
标准类别
方法
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国集成电路标准化技术委员会
执行单位
全国集成电路标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

采标情况

本标准等同采用IEC国际标准:IEC 61967-8:2011。

采标中文名称:集成电路 电磁发射测量 第8部分:辐射发射测量 带状线法。

目的意义

本标准的目的是规定用带状线法测量集成电路的辐射发射。

其意义在于为集成电路的辐射电磁发射测量提供了测量依据,从而可以从集成电路的角度控制辐射电磁发射、提高整机的EMC性能,为考核和提高我国集成电路产品的电磁兼容性提供了依据和可能。

范围和主要技术内容

本部分的测量程序定义了一种使用带状线在频率范围150 kHz~3GHz测量集成电路(IC)电磁辐射发射的方法。被评估IC安装在IC带状线结构的有源导体和接地平面之间的EMC试验板(PCB)上。