国家标准计划《纳米技术 微区表面及亚表面光学暗场共焦显微表征方法》由 TC279（全国纳米技术标准化技术委员会）归口 ，主管部门为中国科学院。

主要起草单位 哈尔滨工业大学 、中国计量科学研究院 。

随着国家产品质量提升计划的实施，微纳加工检测水平不断提升，对超精密光学元件及半导体芯片表面及亚表面检测提出新的需求，原有三维表面及亚表面结构检测及表征方法难以满足现有产品制造过程中的表面质量控制要求。

同时，大尺寸熔石英和KDP晶体是现阶段高功率固体激光装置终端的功能性光学元件，其亚表面缺陷在极端工作条件下所面临的激光诱导损伤已经成为制约高能激光装置发展的瓶颈。

亚表面检测技术不仅是高能激光光学系统性能和寿命的重要保障，也是提高核心元件生产效率的关键。

光学暗场共焦显微镜是一种基于新原理的测量手段，可以提升超精密光学元件及半导体元件的表面及亚表面缺陷检测水平，是亚表面检测真正实现由二维到三维的评估手段，为相关超精密元件检测提供了先进测量方法与装备。

该标准的起草及实施将对推进产品表面及亚表面结构质量控制的标准化推广具有非常重要的意义。

本部标准规定了使用光学暗场共焦显微镜测量表面及亚表面结构的非接触式仪器的计量特征。正文主要技术内容包括：光学暗场共焦显微镜涉及的通用术语和定义、与横向扫描系统相关的术语和定义、与探测系统相关的术语与定义、仪器的计量特征和计量特征概述。在资料性附录部分给出了光学暗场共焦显微镜的基本原理和GPS矩阵。