国家标准项目《半导体单晶晶向测定方法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 、有研半导体材料有限公司 、丹东新东方晶体仪器有限公司 、中国电子科技集团公司第十三研究所 、中环领先半导体材料有限公司 、浙江省硅材料质量检验中心 、广东先导稀材股份有限公司 、浙江海纳半导体有限公司 。

本标准规定了半导体单晶晶向的X射线衍射定向和光图定向的方法。本次主要对GB/T 1555-2009以下内容进行修订： 1、修改方法原理，并在表1中增加磷化铟、碳化硅、氮化镓、氮化铝等衍射晶面的布拉格角θ值。 2、增加测试环境的要求。 3、重新定义测试结果中角度偏差分量α和β。 α — 被测量样品X方向角度偏差分量； β— 被测量样品Y方向角度偏差分量； 4、增加磷化铟、碳化硅、氮化镓、氮化铝等典型材料晶向的单个实验室的重复性和多个实验的对比实验。 5、参照SEMI MF26-0714E Test Method for Determining the Orientation of a Semiconductive Single Crystal，结合实际测试经验，完善干扰因素内容。