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国家标准项目《硅和锗体内少数载流子寿命的测定 光电导衰减法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 有研半导体材料有限公司广州昆德科技有限公司中国计量科学研究院青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司

目录

基础信息

20210889-T-469
制修订
修订
项目周期
18个月
2021-04-30
公示开始日期
2020-08-17
公示截止日期
2020-08-31
标准类别
方法
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

范围和主要技术内容

本次修订内容: 1. 除保留本方法中的直流光电导测试方法之外,将附录中国内厂家普遍使用的高频光电导方法移至正文中。 2. 修订少数载流子寿命的测试条件,明确使用本方法测试少数载流子寿命时必须满足小注入的条件。 3. 修订测试样品的要求。 4. 增加高频光电导法测试少数载流子寿命的干扰因素。 5. 开展巡回测试,得出直流光电导和高频光电导方法的精密度。 6. 参照SEMI MF28-0317,结合测试经验,对原标准内容进行进一步完善。