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国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。

主要起草单位上海华虹NEC电子有限公司。

主要起草人王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。

目录

标准状态

当前标准

GB/T 29844-2013 现行

用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

基础信息

标准号: GB/T 29844-2013
发布日期: 2013-11-12
实施日期: 2014-04-15

标准类别

基础

中国标准分类号

L90

国际标准分类号

31.030

31 电子学

31.030 电子技术专用材料

归口单位

全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位

全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门

国家标准委

起草单位

上海华虹NEC电子有限公司

起草人

伍强

朱骏

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