国家标准 - 全国标准信息公共服务平台

国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位上海华虹NEC电子有限公司。

主要起草人王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。

目录

标准状态

当前标准

GB/T 29844-2013 现行

用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

基础信息

标准号: GB/T 29844-2013
发布日期: 2013-11-12
实施日期: 2014-04-15

标准类别

基础

中国标准分类号

L90

国际标准分类号

31.030

31 电子学

31.030 电子技术专用材料

归口单位

全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位

全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门

国家标准化管理委员会

起草单位

上海华虹NEC电子有限公司

起草人

伍强

朱骏

相近标准(计划)

GB/T 16878-1997 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范

GY/T 316-2018 用于节目制作的先进声音系统

GB/T 42758-2023 用于节目制作的先进声音系统

YB/T 4712-2018 钢渣用于烧结烟气脱硫工艺技术规范

20240248-T-339 半导体集成电路图形处理器（GPU）

20141082-T-469 投影光刻机

SJ/Z 11351-2006 用于描述、选择和转让的集成电路IP核属性格式标准

20240542-T-609 精细陶瓷（先进陶瓷、先进技术陶瓷）使用微磨损试验测定涂层的耐磨性

20240241-Z-469 信息技术生物特征识别用于技术评估的指纹数据库的难度度量

YD/T 3031-2016 用于近场电磁辐射数值评估的成年人头部模型

版权所有侵权必究
主管：国家市场监督管理总局国家标准化管理委员会
主办：国家市场监督管理总局国家标准技术审评中心
技术支持：北京中标赛宇科技有限公司
支持电话：010-82261036
备案号：京ICP备09001239号-6