国家标准《高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 信息产业部专用材料质量监督检验中心 、中国电子科技集团公司第四十六研究所 。

主要起草人 章安辉 、黄庆涛 、何秀坤 。

本标准等同采用其他国际标准：SMEI M63-0306。

采标中文名称:准则：采用高分辨率X光衍射法测量砷化镓衬底上AlGaAs中Al百分含量的测试方法。