国家标准《低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 四川新光硅业科技有限责任公司 。

主要起草人 梁洪 、过惠芬 、吴道荣 。

本标准等同采用其他国际标准：SEMI MF 1630-0704。

采标中文名称:低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法。