国家标准《低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 四川新光硅业科技有限责任公司 。
主要起草人 梁洪 、过惠芬 、吴道荣 。
GB/T 24581-2009 废止
GB/T 24581-2022 (全部代替)
29 电气工程 |
29.045 半导体材料 |
本标准等同采用其他国际标准:SEMI MF 1630-0704。
采标中文名称:低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法。