国家标准计划《氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 新特能源股份有限公司 、新疆晶硕新材料有限公司 。

随着新材料产业的蓬勃发展，氮化硅材料在工业中的应用价值也被广泛的认可，氮化硅作为高附加值的硅材料衍生品，它优异的物理化学特性，在冶金、机械、化工、军工、光伏等领域具有广泛的用途。

氮化硅在多个领域被认为是前景最为广阔、无法替代的材料。

（1）在光伏行业，可用作多晶硅铸锭的脱模剂，防止杂质向多晶硅中渗透。

（2）在冶金领域，可以用于制作坩埚，马弗炉炉膛，燃烧嘴，发热体夹具，铸模，铝业导管，热电偶保护套管，铝电解槽衬里等热工设备上的部件。

（3）在机械领域，可以用于制作高速车刀，轴承，金属部件热处理的支承件，转子发动机刮片，燃气轮机的导向叶片和涡轮叶片。

（4）在化工领域，可以用作球阀，泵体，密封环，过滤器，热交换器部件以及固定化触媒载体，燃烧舟，蒸发皿。

（5）在半导体领域，可以用于制造开关电路基片，薄膜电容器，承受高温或温度剧变的电绝缘体。

（6）在军工领域，可以用于制作陶瓷装甲，整流罩，雷达天线罩，导弹尾喷管，原子反应堆中的支承件和隔离件，核裂变物质的载体。

在《中国制造2025》中第三章战略任务和重点的第六条大力推动重点领域突破发展第九款：新材料中明确国家对新材料的发展需要及支持。

以特种金属功能材料、高性能结构材料、功能性高分子材料、特种无机非金属材料和先进复合材料为发展重点，加快研发先进熔炼、凝固成型、气相沉积、型材加工、高效合成等新材料制备关键技术和装备，加强基础研究和体系建设，突破产业化制备瓶颈。

积极发展军民共用特种新材料，加快技术双向转移转化，促进新材料产业军民融合发展。

高度关注颠覆性新材料对传统材料的影响，做好超导材料、纳米材料、石墨烯、生物基材料等战略前沿材料提前布局和研制。

加快基础材料升级换代。

由于国内氮化硅的民用化研究刚刚起步，高纯氮化硅市场尚未完全打开，高纯氮化硅粉体则基本全部依赖进口。

国际领先的氮化硅粉体生产企业主要有日本的宇部兴产、DENKA电气化学，德国的Starck、Alz，瑞典的Kemanord以及中国的烟台同立等。

因此相对应的基础方法和标准很少，对市场的有效运行造成了困难，对材料的发展流通不利。

所以检测标准的制定对行业材料的发展优化有很大的促进作用。

由于氮化硅中卤素杂质会对相关接触部件造成严重腐蚀，从而影响构件的机械强度和密封环的密封效果，所以对氮化硅中卤素元素的准确测定具有重要意义，目前的国内标准中没有相关的测定方法，在美国、日本的精细氮化硅陶瓷粉检测方法中对这两种元素有检测，所以建立这一标准对氮化硅市场进步有很大的意义。

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本标准适用于氮化硅粉中氟离子和氯离子的测定。 本标准采用高温水解样品，碱液吸收制样，待测元素与基体完全分离，以离子形式存在于试液中，采用离子色谱法测定氮化硅中氟离子和氯离子。 在本标准中针对溶样方法和测定条件进行实验，优化检测条件以保证检测结果的准确性。 本标准为测定氮化硅陶瓷材料中微量氟和氯提供了一种的方法。该方法线性范围宽、操作简单快速、灵敏度高、干扰少，可同时测定F－、Cl－。