国家标准项目《电子工业用气体 氨》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 苏州金宏气体股份有限公司 、中昊光明化工研究设计院有限公司 、西南化工研究设计院有限公司 、湖北省标准化与质量研究院 、湖北光谷标准创新科技有限公司 。

标准规定了氨的技术要求，试验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 氨主要用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 修订的内容如下： ——修改范围（见第1章，2009年版的第1章）； ——修改规范性引用文件（见第2章，2009年版的第2章）； ——修改技术要求（见第3章，2009年版的第3章）； ——修改砷化氢、氮、氧（氩）组分的分析方法（见4.3，2009年版的4.3）； ——删除气体标准样品的规定（见4.7， 2009年版的4.8）； ——修改水含量测定方法（2009年版的4.7）； ——修改金属及其他元素含量的测定方法（见4.8，2009年版的4.8） ——修改标志、包装、贮运及安全（见第5章,2009年版的第5章）； ——删除规范性附录Ａ（2009年版的附录 A）。 增加资料资料性附录A。