国家标准计划《电子工业用气体 氨》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 苏州金宏气体股份有限公司 、中昊光明化工研究设计院有限公司 、西南化工研究设计院有限公司 、湖北省标准化与质量研究院 、湖北光谷标准创新科技有限公司 。

电子工业用氨是一种重要的电子气体，也是一种重要的工业基础材料，广泛应用于半导体产业的集成电路IC、液晶显示器LCD、半导体发光器件LED以及太阳能电池PV等行业。

近年来，随着全球石油等能源资源逐渐减少，世界各国大力发展清洁能源以及节能技术，重点关注低碳经济。

在此背景之下，我国的光伏产业得到了迅猛发展。

在生产制造太阳能电池及LED芯片过程中，都需要用到大量的超纯氨作为氮源，随着用户对太阳能电池发光效率和LED亮度要求越来越高，对作为氮源的超纯氨气的纯度要求也越来越高，2009版国标中的产品纯度已经不能满足市场和技术的需求。

因此，重新修订电子工业用氨的国家标准是我们必须要进行的一项具有深远意义的重要工作。

标准规定了氨的技术要求，试验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 氨主要用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 修订的内容如下： ——修改范围（见第1章，2009年版的第1章）； ——修改规范性引用文件（见第2章，2009年版的第2章）； ——修改技术要求（见第3章，2009年版的第3章）； ——修改砷化氢、氮、氧（氩）组分的分析方法（见4.3，2009年版的4.3）； ——删除气体标准样品的规定（见4.7， 2009年版的4.8）； ——修改水含量测定方法（2009年版的4.7）； ——修改金属及其他元素含量的测定方法（见4.8，2009年版的4.8） ——修改标志、包装、贮运及安全（见第5章,2009年版的第5章）； ——删除规范性附录Ａ（2009年版的附录 A）。 增加资料资料性附录A。