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国家标准项目《电子工业用二氯二氢硅》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 湖北晶星科技股份有限公司湖北省标准化与质量研究院西南化工研究设计院有限公司中国电子技术标准化研究院随州市标准化信息研究所湖北光谷标准创新科技有限公司

目录

基础信息

20184306-T-469
制修订
制定
项目周期
12个月
2018-12-29
公示开始日期
2018-07-26
公示截止日期
2018-08-10
标准类别
产品
国际标准分类号
71.100.20
71 化工技术
71.100 化工产品
71.100.20 工业气体
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门
国家标准委

起草单位

涉及的产品清单

电子工业用二氯二氢硅

范围和主要技术内容

本标准规定了电子工业用二氯二氢硅的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、存储等要求。 本标准适用于电子工业用二氯二氢硅产品,主要用于电子半导体、集成电路工业中硅外延及集成电路上氮化硅掩蔽膜和多晶硅膜等含硅薄膜的制备。 表1 电子工业用二氯二氢硅成品性能监控指标 序号 检测项目 指标 1 二氯二氢硅(SiH2Cl2) /l0-2 ≥99.99 2 四氯化硅(SiCl4)/l0-6 ≤25 3 甲基二氯硅烷(SiCl2CH4)/l0-6 ≤50 4 三氯氢硅(SiHCl3 )/l0-6 ≤25 5 B(硼)≤ 0.05ug/L 6 P(磷)≤ 0.1ug/L 7 Al(铝)≤ 0.05ug/L 8 As(砷)≤ 0.05ug/L 9 Ga(镓)≤ 0.05ug/L 10 Sb(锑)≤ 0.05ug/L 11 In(铟)≤ 0.05ug/L 12 Ca(钙)≤ 1.0ug/L 13 Cr(铬)≤ 0.1ug/L 14 Fe(铁)≤ 1.5ug/L 15 K(钾)≤ 1.0ug/L 16 Na(钠)≤ 0.2ug/L 17 Ni(镍)≤ 0.2ug/L 18 Mo(钼)≤ 0.1ug/L 19 Mn(锰)≤ 0.2ug/L 20 Cu(铜)≤ 0.2ug/L 21 Cd(镉)≤ 0.5ug/L 22 Co(钴)≤ 0.5ug/L 23 Zn(锌)≤ 0.1ug/L 24 电阻率≥ 1000Ω.cm

国家级科研专项支撑

项目编号:2015DFA50480 项目名称: 电子级二氯二氢硅生产及检测技术合作研发 项目组织部门:湖北省科学技术厅 项目管理部门:中华人民共和国科学技术部