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国家标准计划《集成电路三维封装 芯片叠层工艺过程和评价要求》由 TC599(全国集成电路标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 中国电子科技集团第五十八研究所

目录

基础信息

计划号
20182279-T-339
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2018-11-02
申报日期
2017-08-17
公示开始日期
2018-07-26
公示截止日期
2018-08-10
标准类别
基础
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国集成电路标准化技术委员会
执行单位
全国集成电路标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

目的意义

目的:在集成电路三维封装行业内,形成一份通用的芯片叠层工艺标准,从而保证芯片叠层过程的规范化和产品质量的可靠性。

意义:编制的标准可以用于合理指导芯片叠层工艺的生产及检验,同时明确了芯片叠层工艺的工艺流程,解决了行业科研生产过程中产品质量不一致的问题,能有效降低产品失效率和返工率,为后续生产检验提供指导作为参考依据。

范围和主要技术内容

本标准适用于集成电路三维封装的芯片叠层装片及评价。 本标准将主要对不同层数的叠层工艺进行研究,设计并验证多种叠层芯片及配套外壳的粘接胶及粘接厚度的可靠性,对匹配关系进行充分正确的归纳和总结,进行封装适用性及可靠性验证,以提高成品率和产品可靠性,并对芯片叠层工艺的装片精度、外观、孔隙率、粘接强度进行规定及在线控制,以确保标准的科学性、可行性。 本标准内容主要包括工艺目的、工艺对象及范围、引用文件、工作程序、检验、异常情况处置等章节,其工作程序中具体包括工艺流程图、工艺过程、成品率警戒线等规定。