国家标准计划《硅中氯离子含量的测定 离子色谱法 》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 江苏中能硅业科技发展有限公司 。

多晶硅中氯离子含量的高低会对后续产品的使用寿命及转换效率产生影响，因此硅中氯离子的含量，一直被业内人士所关注，尤其是流化床法生产的颗粒硅。

由于颗粒硅生产工艺中，有可能会造成硅中氯离子含量偏高，使用方要求控制氯离子含量，而且越来越认识到其重要性。

但是，硅中氯离子含量的测定一直没有统一的分析方法，因此很难提出其具体控制指标。

目前国内多晶硅用量呈现递增的趋势，2013年第三季度，国内多晶硅产量为2.1万吨，比上一季度产量增长14.3%，其中江苏中能占国内总产量的63%。

江苏中能为了满足广大客户的需求，研究摸索出用离子色谱法测定多晶硅中氯离子含量的方法，并与国内外专家进行交流，确定分析方法的有效性。

目前该方法已经申报国际SEMI标准，并且已经通过国内核心技术委员会的投票认可，正在SEMI网站进行全球征集意见阶段。

本标准的制定，不仅填补国内外的空白，为使用方提供一个可行、可信的氯离子含量的测定方法，与国际接轨，而且对光伏产业的发展起到良好的促进作用。

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本标准规定了多晶硅中氯离子含量的测定方法。本标准适用于测定不同的棒状、块状、颗粒状或片状的多晶硅中氯离子的含量。除颗粒硅外，多晶硅都需进行粉碎，颗粒大小范围在200μm-3000 μm。硅粉、硅片中氯离子的测定可参照执行。 样品在50% 的NaOH溶液中消解使其中氯离子析出，消解完毕后，使用蒸馏过的高纯硝酸进行pH调节到中性，生成偏硅酸钠胶状沉淀，将此溶液离心过滤后作为离子色谱仪的检测样品，测定其氯离子含量。本标准氯离子的检测范围大于0.05ppma。本标准中规定的测试方法成熟，可有效测试多晶硅甚至硅粉、硅片中的氯离子。