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国家标准计划《硅中氯离子含量的测定 离子色谱法 》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 江苏中能硅业科技发展有限公司

目录

基础信息

计划号
20161694-T-469
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2016-11-22
公示开始日期
2016-09-05
公示截止日期
2016-09-20
标准类别
方法
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

范围和主要技术内容

本标准规定了多晶硅中氯离子含量的测定方法。本标准适用于测定不同的棒状、块状、颗粒状或片状的多晶硅中氯离子的含量。除颗粒硅外,多晶硅都需进行粉碎,颗粒大小范围在200μm-3000 μm。硅粉、硅片中氯离子的测定可参照执行。 样品在50% 的NaOH溶液中消解使其中氯离子析出,消解完毕后,使用蒸馏过的高纯硝酸进行pH调节到中性,生成偏硅酸钠胶状沉淀,将此溶液离心过滤后作为离子色谱仪的检测样品,测定其氯离子含量。本标准氯离子的检测范围大于0.05ppma。本标准中规定的测试方法成熟,可有效测试多晶硅甚至硅粉、硅片中的氯离子。