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国家标准计划《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 南京国盛电子有限公司有研半导体材料有限公司

目录

基础信息

计划号
20173545-T-469
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2018-01-09
公示开始日期
2017-10-19
公示截止日期
2017-11-02
标准类别
方法
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

范围和主要技术内容

本标准适用于半导体级硅单晶片和太阳能电池用硅单晶片、硅多晶片以及硅外延片等硅片表面金属元素含量的测定。硅片尺寸为2 Inch~12 Inch,检出限为108 atoms/cm2。 本标准规定了制样方法、检测仪器、检测方法设定规则以及测试环境、操作步骤、精密度等。