国家标准计划《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 南京国盛电子有限公司 、有研半导体材料有限公司 。
| 77 冶金 |
| 77.040 金属材料试验 |
本标准适用于半导体级硅单晶片和太阳能电池用硅单晶片、硅多晶片以及硅外延片等硅片表面金属元素含量的测定。硅片尺寸为2 Inch~12 Inch,检出限为108 atoms/cm2。 本标准规定了制样方法、检测仪器、检测方法设定规则以及测试环境、操作步骤、精密度等。