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国家标准计划《半导体纳米粉体材料紫外-可见漫反射光谱的测试方法》由 TC279(全国纳米技术标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国科学院

主要起草单位 国家纳米科学中心

目录

基础信息

计划号
20170951-T-491
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2017-07-21
公示开始日期
2017-04-24
公示截止日期
2017-05-11
标准类别
方法
国际标准分类号
07.030
07 数学、自然科学
07.030 物理学、化学
归口单位
全国纳米技术标准化技术委员会
执行单位
全国纳米技术标准化技术委员会
主管部门
中国科学院

起草单位

目的意义

半导体纳米粉体材料是纳米尺度上原子和分子的集合体,其具有高比表面、高活性及特殊的物化性质,使其在光催化、太阳能电池、传感器等方面有广泛的应用。

目前,纳米半导体粉体材料在我国纳米新材料市场中规模很大且发展迅速。

产业化的迅速发展对半导体纳米粉体材料性质测量结果的有效性提出了迫切需求。

. 紫外-可见漫反射光谱是照到样品表面的紫外可见漫反射光进入积分球,在其内部经过多次漫反射到达检测器后形成的,是研究半导体纳米粉体材料光学性质的重要表征方法。

通过对半导体纳米粉体材料进行紫外-可见漫反射光谱测量,可知材料对紫外可见光的反射率,进而获得材料的带隙宽度、表面吸附情况、粉体之间的反应,以及其他一些重要的光学性质。

因此,对半导体纳米粉体材料的紫外-可见漫反射光谱的测试方法进行标准化具有重要的意义。

范围和主要技术内容

本标准规定了半导体纳米粉体材料的紫外-可见漫反射光谱测量的方法。 本标准适用于半导体纳米粉体材料,尤其适用于不透光半导体纳米粉体材料漫反射的测定。 技术内容: 对半导体纳米粉体材料进行紫外-可见漫反射测试,明确影响其漫反射光谱测定的影响因素,规范其测试方法。具体为样品制备、确定样品用量、扫描步长和狭缝宽度选择等,重复进行样品测试。