国家标准计划《用于测量关键尺寸（CD）的扫描电子显微镜（SEM）参数描述及术语规范》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 中国科学院微电子研究所 、中国电子技术标准化研究院 。

随着我国半导体技术产业的发展，尤其十二五科技发展规划专项的推动下，我国微光刻技术也飞速发展，而目前我国微光刻领域的标准化工作相对落后，急需转化一些国际先进标准与国际接轨。

该标准目的是规范用于测量关键尺寸的扫描电子显微镜参数描述及术语，建立供需双方的共同的理解。

适用于说明用于测量关键尺寸的扫描电子显微镜参数描述中所涉及的术语，也适用规范在评估和购买关键尺寸的扫描电子显微镜时所涉及的术语。

在微光刻技术，尤其半导体集成电路生产的光刻工艺中CD检测是很重要的，为了达成共识很有必要对CD-SEM的性能指标参数及所涉及的技术术语规范化。

该本标准适用于说明用于测量关键尺寸的扫描电子显微镜参数描述中所涉及的术语，也适用于评估和购买用于测量关键尺寸的扫描电子显微镜时所涉及的术语。该标准的主要技术内容是：引用标准、扫描电子显微镜时所涉及的术语、扫描电子显微镜参数菜单列出项、扫描电子显微镜参数菜单列出项指南和注意事项等。 本项目提案在标委会微光刻工作组2000年提出，随着国内半导体产业发展，企业技术的进步，2012年和2013年年会上进行了草案的讨论和修改，并由中国科学院微电子研究所等科研院所的参与编制，并分工进行完善。