国家标准项目《光刻机用投影物镜波像差测试方法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十五研究所 、中国科学院微电子研究所 、上海大学 、中国电子技术标准化研究院 、中国科学院成都光电技术研究所 、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 。

光刻机投影物镜

本标准规定了光刻机投影物镜波像差的术语和定义、测试要求、测试原理、测试方法、数据处理与判定，适用于光刻机投影物镜的离线和在线波像差检验。