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国家标准计划《电子束曝光机技术要求和试验方法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 合肥国家实验室深圳国际量子研究院北京大学复旦大学中国科学院微电子研究所北京金竟科技有限责任公司深圳市龙图光罩股份有限公司

主要起草人 张振生朱瑞宋学锋徐军高鹏陈宜方韦亚一王巧鸣陆四荣何超叶小龙俞大鹏

目录

项目进度

当前标准计划

20262787-T-469 正在征求意见

电子束曝光机技术要求和试验方法

征求意见稿

基础信息

计划号
20262787-T-469
制修订
制定
项目周期
12个月
下达日期
2026-05-22
标准类别
方法
国际标准分类号
31.030
31 电子学
31.030 电子技术专用材料
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门
国家标准委

起草单位

起草人

张振生
朱瑞
高鹏
陈宜方
陆四荣
何超
宋学锋
徐军
韦亚一
王巧鸣
叶小龙
俞大鹏

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