国家标准项目《磁控溅射用铑靶材》由 TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC5（全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会）执行 ，主管部门为中国有色金属工业协会。

主要起草单位 云南贵金属新材料控股集团股份有限公司 、贵研先进新材料（上海）有限公司 、西安方科新材料科技有限公司 、成都阿尔法金属材料有限公司 。

2.1 范围 规定了铑靶材的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单（或合同）等内容。 适用于微电子技术等领域磁控溅射用铑靶材。其他用途的铑靶材参照使用。 标准草案规定了“靶材”、“靶坯”、“背板”、“磁控溅射”等关键术语的定义，以确保标准使用者对技术要求的理解一致。 2.2 主要技术内容 2.2.1 产品分类：按纯度分为四个牌号（Rh-99.95至Rh-99.999），按结构分为单体和复合靶材，按外形分为圆形、矩形和异形。 2.2.2 技术要求： （1）化学成分：规定了不同牌号的纯度要求，特殊元素控制可由供需双方商定。 （2）晶粒尺寸：要求平均晶粒≤150μm，最大晶粒≤300μm，以保证溅射速率和薄膜均匀性。 （3）内部质量：产品内部不允许有分层、疏松、夹杂和气孔等缺陷。 （4）绑定质量：对于复合靶材，要求焊接结合率≥95%，单个未焊合间隙≤2%，确保使用安全。 （5）表面粗糙度：要求Ra≤1.6μm（图纸无要求时），以保证成膜质量。 （6）外形尺寸：需符合机台要求，偏差按精密f级或双方商定。 （7）外观质量：表面需清洁光滑，无油污、划伤、裂纹等缺陷。 2.2.3 检验规则： 标准草案规定了详细的检验规则，包括组批、取样数量、取样位置及结果判定规则。试验方法均引用了现行标准，确保了检验的科学性和可操作性。 2.2.4 包装、运输、储存要求： 为确保产品在包装、运输、储存过程中不会被二次污染，需与客户协商确定使用可靠运输方式。包装标志内容一般包含但不限于供方信息、产品信息、生产信息及其他要求内容。