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国家标准项目《边发射半导体激光器外延片增益谱测试方法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所苏州镓港半导体有限公司南开大学长春理工大学江苏华兴激光科技有限公司全磊光电股份有限公司

目录

基础信息

制修订
制定
项目周期
18个月
公示开始日期
2026-06-05
公示截止日期
2026-07-05
标准类别
方法
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

范围和主要技术内容

本标准规定了测量半导体边发射激光器和外延片增益谱的试验方法,适用于各类Ⅲ-Ⅴ族半导体边发射激光器和外延片。涵盖测试原理、仪器设备、样品制备、测试步骤和数据处理等内容,规范行业内半导体边发射激光器外延片质量评价。