国家标准计划《石英玻璃氢分子含量试验方法》由 TC447(全国工业玻璃和特种玻璃标准化技术委员会)归口 ,主管部门为中国建筑材料联合会。
主要起草单位 长飞石英技术(武汉)有限公司 。
| 81 玻璃和陶瓷工业 |
| 81.040 玻璃 |
| 81.040.01 玻璃综合 |
高纯石英玻璃
完善石英玻璃测试方法标准体系,给出测试石英玻璃中氢分子含量的标准方法,在规范测试方法的同时,对测试时使用的仪器设备和试样的制备提出明确的要求,为工业化的生产实践提供统一的检测基准。
随着信息化时代的到来,我国在诸多领域取得了全面的进步,这其中,半导体行业作为信息技术的基石,不仅关乎计算机、通信、消费电子等领域的发展,还深刻影响着工业自动化、汽车电子、人工智能等新兴领域的变革。
因此,半导体行业产业链关键工艺的全部国产化替代,不仅是推动国家经济社会跨越式发展的关键动力,也是提升国家国际地位、增强竞争力和构建安全保障体系的重要战略布局。
然而,作为半导体芯片生产流程中最关键的工艺步骤,光刻工艺目前仍为制约国内半导体行业发展的“卡脖子”技术。
其中,用于紫外微光刻应用的高纯石英玻璃成为了解决“卡脖子”技术的关键之一。
在紫外领域,由高纯石英玻璃制成的各种光学元件,可以用于微光刻投影曝光装置。
然而,石英玻璃在制造过程中不可避免会产生类似于化学键断裂、过氧缺陷以及缺氧中心等的结构缺陷,这些缺陷在紫外波段有着很强的吸收带,其中有些缺陷在激光诱导下甚至会导致石英玻璃产生密度变化,这些因素均不利于石英玻璃在紫外微光刻技术中的使用。
通过在石英玻璃中渗入氢分子的方式可以有效改善这些问题,而且改善的效果与渗入的氢分子数量有关,过少不能达到最佳的改善效果。
所以,对于石英玻璃中氢分子含量的测量尤为重要,其同时关乎到制造方的生产和使用方的应用。
因此,制定《石英玻璃氢分子含量试验方法》国家标准是十分必要的,这不仅可以为石英玻璃制造方的生产及检测提供指导,也可以为石英玻璃使用方的选型及应用提供参照,从而为整个产业的上下游提供统一的基准和规范,这对推动国内半导体行业持续健康发展有着深远的意义。
本文件规定了石英玻璃氢分子含量试验方法的术语和定义、试验原理、试验仪器、试样要求、试验步骤、数据处理、试验报告等。 本文件适用于石英玻璃氢分子含量的检验。