国家标准项目《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 上海大学 、张江国家实验室 、上海华力集成电路制造有限公司 、上海微电子装备（集团）股份有限公司 。

国家实验室、国内主要高校科研院所研发任务直接相关的EUV光刻胶、重要测试仪器及其模块等。

本文件规定了极紫外光刻胶的测试方法，主要包括纯度测试方法、化学结构测试方法、抗蚀性能测试方法、线边缘粗糙度和线宽粗糙度测试方法、释气污染测试方法、黏度测试方法、颗粒度测试方法、分辨率测试方法和灵敏度和对比度测试方法。

国家自然科学基金重大项目-高端光刻胶先进工艺仿真及染料分子服役特性工程基础研究、电子信息产业质量基础设施体系建设、发展分析及重要标准和可靠性突破