国家标准计划《电子级三（二甲氨基）环戊二烯基锆》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 南大光电半导体有限公司 、苏州实验室 、苏州源展材料科技有限公司 。

电子级三（二甲氨基）环戊二烯基锆

电子级三（二甲氨基）环戊二烯基锆（简称TDMACpZr）,分子式 C11H23N3Zr ,是一种有机金属化合物，无色或黄色透明液体，对空气和水汽敏感，能溶于烃类、四氯化碳等有机溶剂中。

具有较好的稳定性和较高的蒸汽压，同时具有相当高的反应活性。

沸点：94℃，分解温度：50℃，闪点：108℃，密度：1.26g/cm3，爆炸下限：2.8%，爆炸上限：14.4%。

电子级TDMACpZr是一种性能稳定、易挥发的CVD或ALD前驱体材料，CAS号：33271-88-4，在半导体领域中用于制备锆氧化物薄膜，是取代硅基栅极绝缘体的Hi-K材料之一是CVD和ALD。

近年来,随着以DRAM为代表的半导体存储器和器件的小型化,作为高介电材料的含锆薄膜在电容器领域受到关注。

由于CVD和ALD具有优异的薄膜均匀性、组成控制和量产性，在制造业中是主流。

目前电子级TDMACpZr在国际和国内都没有明确的标准可以参考，仅仅是按客户的要求，而非通用的规范，不利于目前国内IC行业的快速发展。

本项目旨在通过对IC客户的要求进行调研、分析、归纳、总结，建立产品外观、结构完整性、化学性能、物理性能、环境性能等接收标准和检验方法，制订电子级TDMACpZr产品的通用技术标准，实现电子级TDMACpZr产品标准的“零”的突破，为集成电路的应用提供原料保障；实现国内锆基前驱体行业的知识产权、技术能力及发展的自主可控，为锆基膜技术发展指引方向。

标准的技术内容包括：一般要求、设计、材料、外观、结构完整性、化学性能、物理性能、环境性能和特殊性能要求等，以及质量保证要求、交货要求等。 本项目的适用范围为：电子级三（二甲氨基）环戊二烯基锆（以下简称TDMACpZr）产品的技术要求、质量保证和交货准备等规定；适用于CVD沉积工艺所用的硅基前驱体。

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