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国家标准计划《锗抛光片》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准委

主要起草单位 安徽光智科技有限公司广东先导稀材股份有限公司云南临沧鑫圆锗业股份有限公司云南驰宏国际锗业有限公司

目录

基础信息

计划号
20260503-T-469
制修订
制定
项目周期
18个月
下达日期
2026-01-28
公示开始日期
2025-11-24
公示截止日期
2025-12-24
标准类别
产品
国际标准分类号
29.045
29 电气工程
29.045 半导体材料
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准委

起草单位

目的意义

锗抛光片因其优异的红外光学性能、高折射率和半导体特性,在多个高科技领域有重要应用。

在装备方面,夜视仪和红外瞄准镜依赖锗抛光片作为红外透镜和窗口材料,助力在夜间或恶劣环境下执行任务;安防监控领域,利用锗抛光片的特性实现精准的红外探测,保障公共安全;消防救灾中,相关设备的红外光学元件采用锗抛光片,有助于在烟雾等复杂环境中快速定位火源和救援目标。

在航空航天领域,卫星的红外探测器及遥感系统中,锗抛光片作为透红外窗口或透镜,为获取高精度的红外图像和数据提供支持。

医疗设备方面,红外测温仪以及医学成像设备的红外光学元件使用锗抛光片,提高了医疗检测的准确性和可靠性。

在半导体与电子器件领域,锗抛光片主要用于太阳能电池、高速电子器件和辐射探测器的衬底和元件,对提升电子器件性能至关重要。

在光纤通信领域,它作为红外光纤通信中的透镜、棱镜或窗口材料,保障了光信号的高效传输。

锗属于脆性材料,在加工形成锗毛坯片时,极易产生机械损伤及表面缺陷。

这些问题会影响材料的性能和后续应用,因此需要通过抛光工艺来降低材料残余应力,去除表面和亚表面损伤,降低表面粗糙度,同时精确控制镜片的表面面型和不规则度。

抛光后的锗片表面质量直接关系到增透膜镀膜后的透光效果以及镜片的成像效果,对最终产品的性能起着决定性作用。

随着红外光学系统和太阳能电池等行业的快速发展,应用需求呈现多品种、多类型的特点。

在此情况下,制定《锗抛光片》国家标准显得尤为必要。

这一标准将为锗抛光片在生产及贸易过程中提供明确的依据,规范市场秩序,促进产业健康发展。

范围和主要技术内容

本文件规定了锗抛光片的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容; 本文件适用于制备红外光学器件及光电探测器和半导体等器件中的基底材料锗抛光片的生产、检验与质量评价。