国家标准项目《300 mm硅片表面纳米形貌的评价方法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 山东有研艾斯半导体材料有限公司 、上海新昇半导体科技有限公司 、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司 、金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司 、中环领先半导体材料有限公司 。

本文件描述了300 mm硅片表面纳米形貌的测试方法。 本文件适用于硅抛光片、硅外延片、SOI片等。 测试原理：将300 m硅片的表面0.2 mm-20 mm空间波长范围内的合格质量区划分成若干个相同尺寸的圆形或者方形的分析区域，经滤波后选取每个分析区域中高度数据，逐一计算区域内的峰-谷差（P-V），从而定量评价硅片表面纳米形貌。数据阵列来源于单一表面（正表面或背表面）的高度。