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国家标准计划《半导体封装用梯度材料外壳设计要求》由 TC599(全国集成电路标准化技术委员会)归口 ,主管部门为工业和信息化部(电子)

主要起草单位 中国电子技术标准化研究院哈尔滨工业大学吉林大学西南交通大学工业和信息化部电子第五研究所中国电科29所中国电科38所中国电科14所航天二院23所航天五院504所有研金属复材技术有限公司哈尔滨铸鼎工大新材料科技有限公司

目录

基础信息

计划号
20242557-T-339
制修订
制定
项目周期
18个月
下达日期
2024-08-23
申报日期
2023-08-27
公示开始日期
2024-07-10
公示截止日期
2024-08-09
标准类别
基础
国际标准分类号
31.200
31 电子学
31.200 集成电路、微电子学
归口单位
全国集成电路标准化技术委员会
执行单位
全国集成电路标准化技术委员会
主管部门
工业和信息化部(电子)

起草单位

目的意义

本标准对半导体封装用梯度材料外壳可制造性设计术语、总体设计要求、材料设计要求、结构设计要求、表面处理要求、图纸标注要求和检验要求等做出明确规定、定义和详细规定,有利于统一行业标准,促进国内发展半导体封装用梯度材料外壳制造和设计的工艺能力,缩小与国际先进水平的差距。

范围和主要技术内容

本标准适用于与半导体封装用梯度材料外壳设计和制造相关的生产、科研等方面的应用,主要技术内容包括: 1)半导体封装用梯度材料外壳可制造性设计术语; 2)半导体封装用梯度材料外壳可制造性设计总体设计要求; 3)半导体封装用梯度材料外壳材料设计要求; 4)半导体封装用梯度材料外壳结构设计要求; 5)半导体封装用梯度材料外壳表面处理要求; 6)半导体封装用梯度材料外壳设计图纸标注要求; 7)半导体封装用梯度材料外壳检验要求;