国家标准计划《表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法》由 TC608（全国表面化学分析标准化技术委员会）归口 ，主管部门为中国科学院。

主要起草单位 北京师范大学 、中国计量科学研究院 。

本标准等同采用ISO国际标准：ISO 16531:2020。

采标中文名称:表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法。

AES和XPS样品表面离子束清洁刻蚀、离子溅射深度剖析是表面分析中应用广泛的分析技术。

离子扫描刻蚀时，需要使用相应技术规范，校准离子束、确定刻蚀速率的方法基础标准，获得正确结果。

2017年发布实施GB/T34326—2017，等同采标ISO16531:2013。

2020年ISO公布了修订版ISO16531:2020，对标准文本中作了多项技术性修订和一些编辑性修订。

为此需要尽快采标新版转化成国标，以保持该标准先进性，与国际接轨。

本文件适用于俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）中使用惰性气体离子刻蚀样品功能，调节优化扫描离子束对准的方法， 包括两大类：1）法拉第杯测量离子电流方法；2）二次信号成像方法。法拉第杯法还用于离子束流密度和束流分布的测量。这些方法适用于束斑直径小于或等于1 mm的离子枪。 相较于上一版，修订了“使用圆孔法拉第杯对准（5.3）”、“使用离子束栅格扫描时离子诱导二次电子图像对准（5.4）”中的部分技术内容。使提供的对准方法更具适用性。