国家标准计划《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 上海华虹NEC电子有限公司 。

主要起草人 王雷 、伍强 、朱骏 、陈宝钦 。