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国家标准计划《微束分析-分析电子显微术-金属薄试样中位错密度的测定方法》由 TC38(全国微束分析标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准化管理委员会

主要起草单位 首钢集团有限公司国标(北京)检验认证有限公司

目录

基础信息

计划号
20214165-T-469
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2021-10-13
申报日期
2020-12-04
公示开始日期
2021-07-22
公示截止日期
2021-08-05
标准类别
方法
国际标准分类号
71.040.50
71 化工技术
71.040 分析化学
71.040.50 物理化学分析方法
归口单位
全国微束分析标准化技术委员会
执行单位
全国微束分析标准化技术委员会
主管部门
国家标准化管理委员会

起草单位

目的意义

位错是变形、疲劳、裂纹扩展等宏观现象的物理本质,位错的量用位错密度来表示。

位错密度影响材料的强度、韧性等性能以及相变、回复、再结晶等行为。

材料局部的应力集中也是位错密度陡然升高的结果。

因此位错密度的定量评价是金属结构材料研究的基础性课题。

位错密度测量的准确程度关系到后续材料质量、性能的评价,因此有必要对该方法进行规范,并制定相关的国家标准。

范围和主要技术内容

本文件规定了利用透射电子显微镜测量金属中位错密度。本文件适用于不高于1?10+15m-2的位错密度的测量。本文件适用于50nm至几百个nm厚度薄晶体中位错密度的测量。 主要技术内容包括:位错形貌的获取、位错量的统计、测量位置薄晶体膜厚的测量以及位错密度的计算。