国家标准计划《光学功能薄膜 微结构厚度测试方法》由 TC431（全国光学功能薄膜材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为中国石油和化学工业联合会。

主要起草单位 中国乐凯集团有限公司 。

本标准非等效采用ISO国际标准：BS EN ISO 9220:1995。

采标中文名称:金属镀层厚度的扫描电镜测试法。

随着材料、化学等学科的不断发展,通过电镜(SEM/TEM) 对样品的形貌、微结构进行表征，是很普遍的检测手段分辨率通常为纳米级。

电镜具有景深大，图象富有立体感，电子束对样品的损伤与污染程度较小，分辨率高等优点。

在实际的科学研究及生产工艺环节过程控制，如对样品的内部结构、分布情况、填料均匀性、各层厚度及其与基体的结合过渡情况、产品生产过程中弊病产生位置等信息较为关心，就不能仅仅对样品表面进行表征，需要分析各层结构，才能得到材料的微结构信息。

传统对薄膜材料厚度的测量是通过机械式厚度测量仪，其测量结果为某面积内厚度的平均值，精度是1um，测量的是材料的总厚度。

通常光学功能薄膜材料为多层微结构，在实际的科学研究及生产工艺环节过程控制中，需要了解是其各层真实结构、厚度及相互关系，而且功能层厚度有微米级、亚微米级、纳米级多种多样，机械式厚度测量仪不能满足其测试要求。

光反射薄膜测厚仪和椭偏仪也可以对薄膜材料厚度进行测量，是通过薄膜表面和界面的反射光相互干涉，对单/多层薄膜数据进行拟合分析，对薄膜材料进行预先模拟设计，计算得到薄膜的厚度。

要求涂层透明、平整、厚度均匀，且前置条件多（对薄膜或涂层性质了解），测量范围受到限制，不能够完全满足在实际的科学研究及生产工艺环节过程控制，对样品整体微结构的测试要求。

高分辨电镜(SEM/TEM) 分析是薄膜材料样品形貌表征、结构解析的重要方法，薄膜材料观察和分析结果的可靠性与样品制备密切相关，制备出满足电镜观察要求的样品剖面是决定着整个研究成败的关键。

超薄切片技术具有制样过程快速、高效，无污染，可观察薄区范围广等优点，是电镜样品剖面制备的重要环节，随着科学研究的发展，对薄膜材料类样品 (如工业片、医疗胶片、太阳能电池背板、偏光片、PCB银盐胶片、PCB线路版等) 进行精准超薄切片的需求日益增多。

1、本标准规定了光学功能薄膜微结构厚度测试方法； 2、本标准属于方法标准，规定了光学功能薄膜微结构厚度测试方法，例如，医疗胶片微结构厚度测试；偏光近视眼镜中偏光片微结构厚度测试；太阳能电池背板的微结构厚度测试； 3、这是一种破坏性的行为，有≤10%，或者10nm的不确定度，以较大者为准。